Durch die Arbeitsgruppe von Prof. Dr. Fei Ding (Institut für Festkörperphysik) ist ein Elektronenstrahllithographie-Rasterelektronenmikroskop-Hybridsystem (ESL-REM) im LNQE-Reinraum installiert worden und steht jetzt den LNQE-Arbeitsgruppen zur Verfügung (Kontakt und Nutzungsbedingen siehe unten).
Das neue ESL-REM im LNQE hat eine maximale Beschleunigungsspannung von 30 kV und als Elektronenemitter eine thermische Feldemission (TFE) Schottky-Kathode. Wichtigste Paramater sind:
- Gerätetyp: Pioneer Two von Fa. Raith
- Strahlstrom: 5pA – 20 nA, Strahldurchmesser: < 1,6 nm
- Nanolithographie-Auflösung: 8 nm
- Schreibgeschwindigkeit: 6 MHz
- Stitching- und Overlayer-Genauigkeit: 50 nm
- Stagebereich: 50 x 50 x 25 mm
- Inlens Detektor, Doppeldetektor für sekundäre und rückgestreute Elektronen
- EDX–Detektor (Bruker QUANTAX 200) für Elemente zwischen Z=5 und Z=95
- Stage mit 360°-Rotation und 0 – 90° Verkippung
Nutzung:
- Nutzungsbedingungen ESL-REM
- Kontakt: Herr Chenxi Ma (Gruppe Ding), c.ma@fkp.uni-hannover.de, +49 511 762 14448
